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Product Center當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD桌面式濺射儀
桌面式濺射儀KT-Z1650PVD是一款高度集成化智能化的臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧,但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶,自動(dòng)樣品擋板,可調(diào)節(jié)濺射源距離,觸摸屏控制,工藝儲(chǔ)存等功能,方便快捷。
品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據(jù)需求通氣 |
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樣品臺(tái)尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
樣品倉(cāng)尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
靶材材質(zhì) | 金 鉑 銅 銀 等 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電氣 |
桌面式濺射儀KT-Z1650PVD水冷式濺射源,可實(shí)現(xiàn)高功率持續(xù)運(yùn)行,有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛倫茲力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)。
桌面式濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測(cè)量 | 皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |